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钛合金件内外双靶材磁控溅射镀铝设备改进研发
真空离子镀铝过程无三废即废水、废气、废渣产生，已成为广泛研究的热点。本文分析了真空离子磁控溅射镀铝设备原理结构和设计流程，引入闭合磁场非平衡磁控溅射技术思路，对比直流单靶材磁控溅射和内外双靶材磁控溅射中的电磁场分布和等离子体分布，将 2 个直流内单圆柱靶改制为 4 个磁极相对的内外双圆柱靶结构，构建内靶磁场和外靶磁场相反的闭合磁场，研发满足涂层综合性能要求且适于批量生产的镀铝设备，助推国内新型装备高质量发展和清洁节能生产。
넶59 2022-03-04
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磁控溅射制备Ta-Cr非晶合金镀层及其性能
本文采用真空磁控溅射法，采用双靶共溅射法，通过调节溅射功率制备了不同钽含量的Ta-Cr二元非晶合金涂层，并对涂层的表观形貌和物理性能进行了研究。研究过。的特征。研究了钽含量对涂层力学性能和耐腐蚀性能的影响。
넶269 2023-03-20
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不锈钢基片镀ZnO薄膜的工艺与研究
ZnO作为一种新型的光电材料，在光波导、半导体紫外激光器、发光器件、压电传感器和透明电极等方面有着广泛的应用本文综述了在不锈钢衬底上制备ZnO薄膜的方法和工艺......
넶53 2023-03-03
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陶瓷靶材（氧化锌铝ZAO）制备及其薄膜性能研究
研究了ZAO靶材与无氧铜的粘接性能、ZAO靶材与无氧铜的粘接性能。通过溶胶、凝胶方法制备的ZnO和Al2O3混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结，制备了高致密度(相对密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中频交流磁控溅射ZAO靶材的工艺制备了ZAO薄膜。利用SEM扫描电镜和XRD分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。
넶61 2023-01-29
