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行业资讯

发布:2025-02-05

  • 春节假期通知:国材与您共迎新春,畅享事业未来

    新春的脚步即将临近,伴随着万象更新与岁月更迭,我们迎来了一个崭新的农历新年。值此佳节来临之际,江西国材科技有限公司全体员工向您致以最诚挚的祝福:祝您春节快乐,阖家幸福,事业蒸蒸日上!我们将于1月26日(星期日)至2月4日(星期二)放假,2月5日(星期三)恢复正常工作。

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春启新程 | 国材科技以"镀"赋能,携手共创薄膜新篇章

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铜锰合金作为靶材的核心材料,其性能由锰元素的加入所显著改进。从物理、化学到机械性能,锰在铜基材料中的作用如下:

 

物理性能改性 硬度和强度提升:锰通过固溶强化和细化晶粒作用,大幅提升铜的硬度和抗拉强度,特别适用于需要承受高机械应力的薄膜制备场景。

密度优化:铜锰合金的密度适中,可在不牺牲材料韧性的前提下,保持薄膜沉积的均匀性和可控性。

成膜均匀性:锰的加入可改善材料的熔化和冷却特性,形成更加均匀的晶体结构,从而提升溅射过程中成膜的均匀性。 化学性能改性 抗氧化能力增强:锰具有优良的抗氧化特性,其在铜中的分布能够有效减缓材料在高温和氧化性环境下的腐蚀速度。 耐化学性提升:铜锰合金对酸性和碱性介质表现出更高的耐受性,使其在化学气相沉积(CVD)工艺中具有更长的使用寿命。 机械性能改性 抗裂纹性能:锰的加入使铜锰合金的韧性和强度得到平衡,能够有效抵抗薄膜沉积过程中的机械冲击。 疲劳寿命延长:在高频使用的工业环境中,铜锰合金展现出优异的抗疲劳性能,确保靶材在长期使用中的稳定性。 晶体结构优化 锰元素改变了铜基材料的晶体排列方式,形成致密的晶体结构,并有效细化晶粒。这种改性不仅提高了靶材的成分均匀性,还增强了薄膜沉积时的结构稳定性,减少了因晶粒边界引起的缺陷。

 

铜锰合金靶材:如何平衡性能与成本?多领域需求驱动新一代技术

发布时间:2025-01-04

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  • 合金靶材用途分类:从行业需求到功能创新,全面覆盖应用领域

    文章从电子、光学、新能源、航空航天及医疗五大行业出发,系统梳理了靶材的核心应用场景,并通过功能分类进一步揭示导电、光学、防护、装饰及功能性薄膜的技术价值。最后,结合靶材的制备工艺和性能要求,全面展望了合金靶材未来的发展趋势与创新方向。

    59 2025-01-04
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  • 辞旧迎新,智造未来:2025,与您共进

    值此元旦佳节之际,江西国材科技有限公司向全体客户、合作伙伴以及全体员工致以诚挚的祝福与感谢!
    过去的2024年是我们充满机遇与挑战的一年,也是公司不断创新、稳步发展的重要一年。在磁控溅射靶材、镀膜材料及服务领域,我们凭借技术研发与行业深耕的双轮驱动,推出了一系列高性能、高纯度的产品,助力客户提升生产效率与产品竞争力,为新能源、半导体、光学等关键行业贡献了我们的专业力量。

    16 2024-12-31
  • 华诞七十五载,盛世耀中华

    在国庆75周年之际,江西国材科技有限公司发布了题为“华诞七十五载,盛世耀中华——江西国材科技有限公司与您共庆辉煌未来”的新闻稿,向全体客户、合作伙伴及朋友们致以节日问候与祝福。文章回顾了祖国75年的辉煌历程,表达了公司对国家繁荣昌盛的赞美之情,并感谢客户一路以来的支持。借助这个特殊的节点,江西国材科技有限公司承诺继续以优质的磁控溅射靶材、镀膜材料、基片、耗材和镀膜服务为客户提供支持,共同迈向更加辉煌的未来。

    71 2024-09-30
  • 庆祝八一建军节,共筑强国之梦

    作为高新技术材料领域的一员,致力于为国家的发展和现代化建设贡献力量。先进的磁控溅射靶材、镀膜材料、基片、耗材及镀膜服务不仅在国防工业中发挥着重要作用,更为各行各业的科技创新和产业升级提供了坚实的基础和保障。始终坚持技术创新和质量至上,以实际行动支持国家的强军目标和科技强国战略。

    34 2024-07-31
  • 铜合金靶材的独特优势:从材料性能到行业应用,全面解读创新之路

    本文围绕铜合金靶材展开详细探讨,内容涵盖其主要成分与分类、独特性能、制备技术、关键性能指标以及在半导体、光伏、显示技术等领域的实际应用。文章以科学与产业视角结合,系统分析了铜合金靶材的技术价值及未来发展方向,为行业内外提供深入的参考。

    67 2025-01-04
  • 靶材是指什么东西?从定义到工艺,全面剖析科技材料的应用与价值

    本文深入解析了“靶材是指什么东西”这一问题,从靶材的核心概念与原理出发,结合其分类、关键特性及制备工艺,全面解读靶材在现代科技领域的核心作用。同时,文章探讨了靶材在半导体、显示技术、光伏新能源、磁存储及生物医疗等领域的典型应用,揭示其作为高科技薄膜制备关键材料的巨大价值。

    196 2025-01-03
  • 高纯靶材制造工艺:核心技术详解,破解纯度与性能瓶颈

    本文聚焦于高纯靶材制造工艺,全面解析了其关键特性、分类及广泛应用领域。文章详细梳理了高纯靶材从原料提纯到成品检测的核心制造流程,重点分析了提纯技术、致密化工艺和表面处理的关键环节。此外,还探讨了高纯靶材制造中的技术瓶颈,如纯度极限、规模化生产及表面缺陷控制,并展望了未来技术创新方向。通过深入解读,本文为高纯靶材行业从业者及相关领域研究者提供了系统性的技术参考。

    138 2025-01-03