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  • 解析硅在光电领域的优势:提升转化效率的三大路径

    硅材料在光电领域中的应用及其转化效率提升的技术路径,探索硅薄膜工艺优化、表面处理技术和载流子迁移率提高的方法。

    넶1 2026-01-29
  • 硅片——集成电路制造的“地基”

    通过对硅片在集成电路制造中的重要性进行详细解析,介绍如何通过优化硅片质量、改善薄膜沉积工艺、选择合适的靶材等手段,提升集成电路的性能与稳定性。

    넶0 2026-01-29
  • 高熵合金靶材如何推动高新产业突破?从航空航天到新能源的应用案例与技术实现

    高熵合金靶材凭借其优异的物理化学性能,在航空航天、新能源、半导体等高新技术领域得到了广泛应用。本文探讨了高熵合金靶材如何推动各领域技术突破,特别是在涂层技术中的关键作用。通过优化靶材性能与溅射工艺,提升膜层质量,解决了高温、耐腐蚀等严苛条件下的技术难题。文章还分析了高熵合金靶材在光电显示、太阳能电池等领域的应用案例,展示了其在提升产业性能中的重要作用。

    넶9 2026-01-21
  • 从均匀性到附着力:高标准镀膜打样是如何做到科研级工艺的?

    从均匀性控制到附着力优化,深度剖析科研级镀膜打样如何实现高品质工艺,为薄膜材料研究与开发提供关键参考。

    넶45 2025-07-23
  • 追求高致密、低缺陷?科研级磁控溅射镀膜解决你的工艺瓶颈

    高致密、低缺陷不再遥不可及,科研级磁控溅射镀膜为高端材料研发提供系统化解决方案,破解制膜工艺瓶颈。

    넶63 2025-07-23
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