• 改进研发钛合金件内外双靶材磁控溅射镀铝设备

    本文研究了钛合金件内外双靶材磁控溅射镀铝设备的改进。通过对现有设备的分析和问题检测，提出了改进方案并进行了实验验证。结果表明，改进后的设备可以更有效地实现钛合金件的镀铝处理，提高镀层的质量和稳定性。

    넶197 2023-04-25

  • 磁控溅射制备Ta-Cr非晶合金镀层及其性能

    本文采用真空磁控溅射法，采用双靶共溅射法，通过调节溅射功率制备了不同钽含量的Ta-Cr二元非晶合金涂层，并对涂层的表观形貌和物理性能进行了研究。研究过。的特征。研究了钽含量对涂层力学性能和耐腐蚀性能的影响。

    넶614 2023-03-20

  • 不锈钢基片镀ZnO薄膜的工艺与研究

    ZnO作为一种新型的光电材料，在光波导、半导体紫外激光器、发光器件、压电传感器和透明电极等方面有着广泛的应用本文综述了在不锈钢衬底上制备ZnO薄膜的方法和工艺......

    넶105 2023-03-03

  • 陶瓷靶材（氧化锌铝ZAO）制备及其薄膜性能研究

    研究了ZAO靶材与无氧铜的粘接性能、ZAO靶材与无氧铜的粘接性能。通过溶胶、凝胶方法制备的ZnO和Al2O3混合粉末经冷压预成型加真空低压烧结，制备了高致密度(相对密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中频交流磁控溅射ZAO靶材的工艺制备了ZAO薄膜。利用SEM扫描电镜和XRD分析测试了陶瓷靶材断口形貌以及靶材和薄膜的结构。

    넶114 2023-01-29

  • 氧气流量及烧结保温时间对 ITO 靶材的相含量与电阻率的影响

    采用注浆成型法在不同烧结参数下制备 lTO 靶材,研究不同氧气流量及烧结保温时间对 lTO 靶材的相含量与电阻率的影响。 通过 X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对 lTO 靶材的物相组成以及微观组织形貌进行表征,运用 Rietveld 法对样品 XRD 数据进行结构精修以计算其相含量。研究结果表明:靶材均由主相(ln2O3 相)以及第二相(ln4Sn3O12 相)组成。 当氧气流量由 40 L / min 提高到 160 L / min 时,第二相含量由 19. 82%(质量分数,下同)逐渐增加到 25. 83%;当保温时间由 6 h 延长到 12 h 时,第二相含量由 19. 79% 逐渐增加到 31. 27%。 对不同氧气流量以及烧结保温时间下所制备的样品进行相对密度以及电阻率测定,结果表明,靶材密度是影响其电阻率的最主要因素,靶材的电阻率随着密度的增加而降低。靶材密度相近时,靶材相含量对其电学性能有较大的影响,此时靶材的电阻率随着第二相含量的增加而增大。

    넶419 2022-12-29